避免PECVD工序中石墨舟印的處理工藝

本發(fā)明涉及硅太陽(yáng)能電池制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種避免PECVD工序中石墨舟印的處理工藝，包括以下步驟：將存放時(shí)間超過(guò)4小時(shí)的石墨舟搬運(yùn)至管式PECVD機(jī)臺(tái)，對(duì)石墨舟進(jìn)行洗舟工藝加載，

洗舟工藝步驟為：開(kāi)始、進(jìn)舟、抽真空、吹掃、抽真空、檢漏、抽真空、恒溫、恒壓、淀積一、抽真空、吹掃、淀積二、抽真空、吹掃、抽真空、充氮、取舟、結(jié)束，將運(yùn)行過(guò)洗舟工藝后的石墨舟從爐管中取出后，按正常工藝本實(shí)用新型公開(kāi)了一種便于標(biāo)記的石墨舟卡點(diǎn)及石墨舟，

便于標(biāo)記的石墨舟卡點(diǎn)包括安裝部以及卡點(diǎn)單元；每個(gè)所述卡點(diǎn)單元依次包括承載部和表面部；沿著每個(gè)所述卡點(diǎn)單元的表面部均設(shè)置有線形縫隙鏤空，且垂直于所述表面部的徑向方向有參考線；所述線形縫隙鏤空與所述參考線之間存在夾角。上述石墨舟，

是包含了上述適用于石墨舟的卡點(diǎn)的載體裝置。本實(shí)用新型提供的便于標(biāo)記的石墨舟卡點(diǎn)及石墨舟，